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气体离子刻蚀清洗及辅助沉积技术的基本原理如下：

① 在涂层前，利用气体离子源将氩气和氢气离化，产生的气体离子（Ar+和H+）在偏压作用下，对产品表面进行刻蚀清洗；

② 在涂层中，利用气体离子源将氩气、氮气、氧气等反应气体离化，辅助磁控溅射或电弧沉积；

气体离子刻蚀清洗及辅助沉积优点有：

① 气体等离子体能量范围宽，可强可弱，适用于各种类型的工件；

② 有效去除表面氧化层，刻蚀清洗效果更彻底，膜基结合力好；

③ 辅助沉积，有利于涂层致密性、改善镀膜均匀性；